A．盐酸和二氧化硅不反应，不能用于在玻璃上进行刻蚀，故A错误；B．氢氟酸与二氧化硅易反应，生产四氟化硅气体，反应的化学方程式为：4HF+SiO2=SiF4↑+2H2O，能在玻璃上进行刻蚀，故B正确；C．二氧化硅与烧碱反应，但反应缓慢，生产的硅酸钠和二氧化硅难以分离，不能用于在玻璃上进行刻蚀，故C错误；D．纯碱与二氧化硅在高温下反应，不能用于在玻璃上进行刻蚀，故D错误；故选B．
