操作2应该是再第一步得到的溶液中加入过量的NaOH吧,如果是,如下:
操作1叫溶解,操作2叫沉淀
步骤一反应:Mg + H2SO4 == H2↑ + MgSO4,2Al + 3H2SO4 == 3H2↑ + Al2(SO4)3,SiO2不反应
气体X是H2,滤液Y中含硫酸镁和硫酸铝及剩余硫酸,固体Z是二氧化硅
步骤2反应:
H2SO4 + 2NaOH == Na2SO4 + 2H2O
MgSO4 + 2NaOH == Mg(OH)2↓ + Na2SO4
Al2(SO4)3 + 6NaOH == Al(OH)3↓ + 3Na2SO4
Al(OH)3↓ + NaOH == NaAlO2 + 2H2O(氢氧化钠过量,使硫酸铝溶解)
固体M是Mg(OH)2,滤液N中有硫酸根,OH-、偏铝酸根
Z是SiO2,可以和NaOH反应,SiO2 + 2NaOH == Na2SiO3 + H2O
2Al +3H2SO4=Al2(SO4)3+3H2 , SiO2 不与H2SO4反应。气体x——H2滤液y----H2SO4,Al2(SO4)3.固体z------SiO2.
SIO2+2NaOH=Na2SiO3 +H2O 其它的根据以上描述就看不出了。希望对你有所帮助。
你这问题不严谨,会给人误解,个人认为操作2应该是在操作1的基础上加入过量的氢氧化钠。
X应该为氢气
固体Z应该是二氧化硅
固体M应该是氢氧化镁
滤液中应该还有氢氧根例子和偏铝酸根离子
二氧化硅可以跟氢氧化钠发生发应会生成硅酸钠