DBR又叫分布布拉格反射镜，DBR结构由交替的多层高折射率和低折射率材料(折射率分别为nH和nL)组成，每层的光学厚度为发射波长的1/4。如利用MOCVD系统制备蓝光波段高反射率AlN/GaN的 DBR，它的结构即是由AlN和GaN两种材料交替而成。其折射率分别为2.30和2.43。
采用低压Thomas Swan MOCVD系统在蓝宝石(0001)面衬底上制备AlN/GaN DBR样品。以三甲基铝、三甲基镓和氨气作为源气体。衬底先在H2气氛下经1 100℃高温热处理10 min,然后将温度降至572℃,在低温下淀积一层25 nm厚的低温GaN成核层,再将温度升至1 135℃,生长1.3μm的GaN缓冲层。然后,将生长温度调为1 030℃,在N2气氛下交替生长AlN和GaN层制备DBR。
该DBR的中心反射波长为462.5 nm，设AlN的折射率n1=2.30,GaN的折射率n2=2.43；令它们的厚度分别为d1和d2则由公式：
n1d1=n2d2=/4
得：
d1=/4n1=50.1nm
d2=/4n2=47.3nm
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