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磁控溅射靶材是铟、起辉气体是氩气（高纯），反应气体是氧（高纯），在基片上需要生成三氧化二铟
磁控溅射靶材是铟、起辉气体是氩气（高纯），反应气体是氧（高纯），在基片上需要生成三氧化二铟
2025-02-25 15:56:40
推荐回答（2个）
回答1：
氧流量，控制靶中毒。
沉积膜时的时间，
基材的清洁问题，
回答2：
1.氧分压。
2.靶不能中毒。
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