PECVD工作原理

PECVD--等离子体化学气相沉积法

　　为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD).

　　实验机理：

　　辉光放电等离子体中：电子密度高(109~1012/cm3)

　　电子气温度比普通气体分子温度高出10-100倍

　　虽环境温度(100-300℃)，但反应气体在辉光放电等离子体中能受激分解，离解和离化，从而大大提高了参与反应物的活性。

　　因此，这些具有高反应活性的中性物质很容易被吸附到较低温度的基本表面上，发生非平衡的化学反应沉积生成薄膜。

　　优点：基本温度低；沉积速率快；
成膜质量好，针孔少，不易龟裂。

　　缺点：1.设备投资大、成本高，对气体的纯度要求高；

　　2.涂层过程中产生的剧烈噪音、强光辐射、有害气体、金属蒸汽粉尘等对人体有害；

　　3.对小孔孔径内表面难以涂层等。

真空下，加上射频或微波电场，使反应室气体发生辉光放电产生大量电子，在电场作用下获得能量，与气体分子发生碰撞使气体分子活化吸附在衬底上，发生化学反应生成介质膜，副产物从衬底上解吸，随主气流由真空泵抽走！

镀膜的。通过高频发电使待反应的气体（SIH4，NH3）在等离子状态下剧烈反应，生成SIN膜在电池片的表面。可以增强电池片对太阳光线的吸收，减少反射从而一定程度上提高了电池片转换效率。

分板式和管式的。板式的利用高频电击使特气在等离子状态下剧烈反应。增强光的吸收，减少反射。其实说白了镀膜就一个钝化效果和膜厚折射率。镀膜丝网出身，不懂可以问我。

这个百度一下比较好吧。