请问半导体制造过程中那些环节需要真空设备

2025-04-29 21:11:38
推荐回答(2个)
回答1:

需要用的地方主要有蒸发,溅射,PECVD,干法刻蚀等,望采纳

回答2:

离子溅射,也就是镀铝