标题:图4铱涂层的化学气相沉积装置示意图 Fig.4 Schematic diagram of CVD apparatus for iridium coat-ings篇名:化学气相沉积技术与材料制备说明:80年代中期以来美国国家航空与宇宙航天局(NASA)采用金属有机化合物化学气相沉积法(MOCVD)成功制备出铼基铱涂层复合喷管[14~19],化学气相矫JFD2001
