首页
13问答网
>
磁控溅射靶材是铟、起辉气体是氩气（高纯），反应气体是氧（高纯），在基片上需要生成三氧化二铟
磁控溅射靶材是铟、起辉气体是氩气（高纯），反应气体是氧（高纯），在基片上需要生成三氧化二铟
2025-02-25 15:56:40
推荐回答（2个）
回答1：
氧流量，控制靶中毒。
沉积膜时的时间，
基材的清洁问题，
回答2：
1.氧分压。
2.靶不能中毒。
相关问答
最新问答
请问怎样能够防治脚抽筋？
游戏人生QQ飞车电信一区荣誉怎么不能领了
男人要找对象，什么样的女人不能找，恋爱中要注意什么？
想去当兵B超有肾结石，彩超没有复检的时候医生不让人过怎么办？
美图手机t8s和v6的区别
小品胡椒面串台词谁能提供下？
怎么用单片机收集100个传感器中任意几个传感器的信号
川菜烹饪技巧香辣篇
酥炸蒜香小鱼的做法，酥炸蒜香小鱼怎么做好吃
算孩子五行属性起名 请高人帮忙给孩子算下五行属性最好给起个名字，公历2013.10.18中午11：
